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Ieee Transactions On Plasma Science

Ieee Transactions On Plasma Science

SCISCIE

国际简称:IEEE T PLASMA SCI  参考译名:IEEE Transactions On Plasma Science

  • 中科院分区

    3区

  • CiteScore分区

    Q2

  • JCR分区

    Q3

基本信息:
ISSN:0093-3813
E-ISSN:1939-9375
是否OA:未开放
是否预警:否
TOP期刊:否
出版信息:
出版地区:UNITED STATES
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版语言:English
出版周期:Bimonthly
出版年份:1973
研究方向:物理-物理:流体与等离子体
评价信息:
影响因子:1.6
H-index:98
CiteScore指数:3.2
SJR指数:0.465
SNIP指数:0.854
发文数据:
Gold OA文章占比:2.16%
研究类文章占比:99.81%
年发文量:519
自引率:0.2
开源占比:0.0733
出版撤稿占比:
出版国人文章占比:0
OA被引用占比:
英文简介 期刊介绍 CiteScore数据 中科院SCI分区 JCR分区 发文数据 常见问题

英文简介Ieee Transactions On Plasma Science期刊介绍

The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.

期刊简介Ieee Transactions On Plasma Science期刊介绍

《Ieee Transactions On Plasma Science》自1973出版以来,是一本物理与天体物理优秀杂志。致力于发表原创科学研究结果,并为物理与天体物理各个领域的原创研究提供一个展示平台,以促进物理与天体物理领域的的进步。该刊鼓励先进的、清晰的阐述,从广泛的视角提供当前感兴趣的研究主题的新见解,或审查多年来某个重要领域的所有重要发展。该期刊特色在于及时报道物理与天体物理领域的最新进展和新发现新突破等。该刊近一年未被列入预警期刊名单,目前已被权威数据库SCI、SCIE收录,得到了广泛的认可。

该期刊投稿重要关注点:

Cite Score数据(2026年6月最新版)Ieee Transactions On Plasma Science Cite Score数据

  • CiteScore:3.2
  • SJR:0.465
  • SNIP:0.854
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Nuclear and High Energy Physics Q2 40 / 97

59%

大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q3 258 / 446

42%

CiteScore 是由Elsevier(爱思唯尔)推出的另一种评价期刊影响力的文献计量指标。反映出一家期刊近期发表论文的年篇均引用次数。CiteScore以Scopus数据库中收集的引文为基础,针对的是前四年发表的论文的引文。CiteScore的意义在于,它可以为学术界提供一种新的、更全面、更客观地评价期刊影响力的方法,而不仅仅是通过影响因子(IF)这一单一指标来评价。

历年Cite Score趋势图

中科院SCI分区Ieee Transactions On Plasma Science 中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区
期刊分区表(2025年3月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 4区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区
期刊分区表(2023年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 4区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区
期刊分区表(2022年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区
期刊分区表(2021年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区

中科院分区表 是以客观数据为基础,运用科学计量学方法对国际、国内学术期刊依据影响力进行等级划分的期刊评价标准。它为我国科研、教育机构的管理人员、科研工作者提供了一份评价国际学术期刊影响力的参考数据,得到了全国各地高校、科研机构的广泛认可。

中科院分区表 将所有期刊按照一定指标划分为1区、2区、3区、4区四个层次,类似于“优、良、及格”等。最开始,这个分区只是为了方便图书管理及图书情报领域的研究和期刊评估。之后中科院分区逐步发展成为了一种评价学术期刊质量的重要工具。

历年中科院分区趋势图

JCR分区Ieee Transactions On Plasma Science JCR分区

2025-2026年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 43

31.4

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 43

33.72

2024-2025年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 41

30.5

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 28 / 41

32.93

2023-2024年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

28.7

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

26.25

JCR分区的优势在于它可以帮助读者对学术文献质量进行评估。不同学科的文章引用量可能存在较大的差异,此时单独依靠影响因子(IF)评价期刊的质量可能是存在一定问题的。因此,JCR将期刊按照学科门类和影响因子分为不同的分区,这样读者可以根据自己的研究领域和需求选择合适的期刊。

历年影响因子趋势图

本刊中国学者近年发表论文

  • 1、Influence of Copper-Ring Driver Thickness on Energy Transfer and Welding Effect of Electromagnetic Pulse Weldin

    Author: Chen, Dan; Zhou, Yan; Wu, Zhaoxiao; Zheng, Yong; Zheng, Yunxi; Li, Chengxiang

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1411-1421. DOI: 10.1109/TPS.2026.3676422

  • 2、Research on a 200-kV Mini-Marx Generator Based on N-MCT Solid-State Switche

    Author: Gao, Mian; Li, Lei; Zhai, Rongxiao; Wu, Qilin; Luo, Weixi; Yin, Jiahui; Hu, Yixiang; Qiu, Mengtong

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1631-1636. DOI: 10.1109/TPS.2026.3670870

  • 3、Newton-BT-FDTD Method for Wave Propagation in Time-Varying Magnetized Plasm

    Author: Fang, Yun; Wan, Peng; Wang, Dandan; Yang, Hongjun; Yang, Wanchun; Zhang, Dingfang; Zhang, Xue

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1688-1698. DOI: 10.1109/TPS.2026.3670822

  • 4、Modeling and Simulation of Vacuum Arc With the Ionization-Recombination Characteristics of Anode Jets Under the Effect of Anode Melting Pool Protrusion

    Author: Jia, S.; Sun, H.; Zhang, Q.; Liu, Y.; Liu, X.; Huang, X.; Bai, Y

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1637-1648. DOI: 10.1109/TPS.2025.3618619

  • 5、An Improved Pre-Charging Method for ICCOS Module in Meat Grinder With SECT Circui

    Author: Wu, Bowen; Li, Haitao; Gao, Wei; Zhao, Bo; Liu, Jian; Mi, Shanhui

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1723-1729. DOI: 10.1109/TPS.2026.3673672

  • 6、A High-Efficiency and Miniaturized Pulse Generator Based on a Triple-Resonant Tesla Transforme

    Author: Chen, Jialin; Zhu, Kai; Ding, Shuye; Shi, Fukun; Guo, Jinsong; Zhang, Shuai; Shao, Tao; Zhang, Cheng; Zhuang, Jie; Rao, Junfeng

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1580-1590. DOI: 10.1109/TPS.2026.3665587

  • 7、Modeling and Simulation of High-Frequency Vacuum Arc Under the Influence of Actual Magnetic Fiel

    Author: Huang, Xiaolong; Hu, Hang; Xu, Huikai; Zhong, Xuewen; Sun, Tao; Tang, Qiang; Shen, Saikang; Jia, Shenli

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. 54, Issue 4, pp. 1649-1658. DOI: 10.1109/TPS.2026.3673166

  • 8、Heat Flow Characteristics of Segmented Laminar Plasma Torch Influenced by Interelectrode Structure Based on Numerical Simulatio

    Author: Huang, Bo; Cao, Xiuquan; He, Yong; Liu, Xin; Li, Chao; Zhang, Fa

    Journal: IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE. 2026; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.1109/TPS.2026.3675563

投稿常见问题

通讯方式:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。