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Ieee Electron Device Letters

Ieee Electron Device Letters

SCISCIE

国际简称:IEEE ELECTR DEVICE L  参考译名:IEEE 电子器件字母

  • 中科院分区

    2区

  • CiteScore分区

    Q1

  • JCR分区

    Q2

基本信息:
ISSN:0741-3106
E-ISSN:1558-0563
是否OA:未开放
是否预警:否
TOP期刊:是
出版信息:
出版地区:UNITED STATES
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版语言:English
出版周期:Monthly
出版年份:1980
研究方向:工程技术-工程:电子与电气
评价信息:
影响因子:4.6
H-index:135
CiteScore指数:7.9
SJR指数:1.087
SNIP指数:1.44
发文数据:
Gold OA文章占比:2.21%
研究类文章占比:100.00%
年发文量:550
自引率:0.1020...
开源占比:0.057
出版撤稿占比:
出版国人文章占比:0
OA被引用占比:
英文简介 期刊介绍 CiteScore数据 中科院SCI分区 JCR分区 发文数据 常见问题

英文简介Ieee Electron Device Letters期刊介绍

IEEE Electron Device Letters publishes original and significant contributions relating to the theory, modeling, design, performance and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects, involving insulators, metals, organic materials, micro-plasmas, semiconductors, quantum-effect structures, vacuum devices, and emerging materials with applications in bioelectronics, biomedical electronics, computation, communications, displays, microelectromechanics, imaging, micro-actuators, nanoelectronics, optoelectronics, photovoltaics, power ICs and micro-sensors.

期刊简介Ieee Electron Device Letters期刊介绍

《Ieee Electron Device Letters》自1980出版以来,是一本工程技术优秀杂志。致力于发表原创科学研究结果,并为工程技术各个领域的原创研究提供一个展示平台,以促进工程技术领域的的进步。该刊鼓励先进的、清晰的阐述,从广泛的视角提供当前感兴趣的研究主题的新见解,或审查多年来某个重要领域的所有重要发展。该期刊特色在于及时报道工程技术领域的最新进展和新发现新突破等。该刊近一年未被列入预警期刊名单,目前已被权威数据库SCI、SCIE收录,得到了广泛的认可。

该期刊投稿重要关注点:

Cite Score数据(2026年6月最新版)Ieee Electron Device Letters Cite Score数据

  • CiteScore:7.9
  • SJR:1.087
  • SNIP:1.44
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q1 172 / 1030

83%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q1 62 / 318

80%

CiteScore 是由Elsevier(爱思唯尔)推出的另一种评价期刊影响力的文献计量指标。反映出一家期刊近期发表论文的年篇均引用次数。CiteScore以Scopus数据库中收集的引文为基础,针对的是前四年发表的论文的引文。CiteScore的意义在于,它可以为学术界提供一种新的、更全面、更客观地评价期刊影响力的方法,而不仅仅是通过影响因子(IF)这一单一指标来评价。

历年Cite Score趋势图

中科院SCI分区Ieee Electron Device Letters 中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 2区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 3区
期刊分区表(2025年3月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 2区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 3区
期刊分区表(2023年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 2区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 2区
期刊分区表(2022年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 2区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 2区
期刊分区表(2021年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 2区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 2区

中科院分区表 是以客观数据为基础,运用科学计量学方法对国际、国内学术期刊依据影响力进行等级划分的期刊评价标准。它为我国科研、教育机构的管理人员、科研工作者提供了一份评价国际学术期刊影响力的参考数据,得到了全国各地高校、科研机构的广泛认可。

中科院分区表 将所有期刊按照一定指标划分为1区、2区、3区、4区四个层次,类似于“优、良、及格”等。最开始,这个分区只是为了方便图书管理及图书情报领域的研究和期刊评估。之后中科院分区逐步发展成为了一种评价学术期刊质量的重要工具。

历年中科院分区趋势图

JCR分区Ieee Electron Device Letters JCR分区

2025-2026年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 108 / 369

70.9

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 97 / 371

73.99

2024-2025年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 99 / 368

73.2

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 80 / 368

78.4

2023-2024年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 94 / 352

73.4

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 77 / 354

78.39

JCR分区的优势在于它可以帮助读者对学术文献质量进行评估。不同学科的文章引用量可能存在较大的差异,此时单独依靠影响因子(IF)评价期刊的质量可能是存在一定问题的。因此,JCR将期刊按照学科门类和影响因子分为不同的分区,这样读者可以根据自己的研究领域和需求选择合适的期刊。

历年影响因子趋势图

发文数据

国家/地区发文量统计
  • 国家/地区数量
  • CHINA MAINLAND577
  • USA282
  • South Korea174
  • Taiwan123
  • Japan65
  • England60
  • India49
  • Belgium37
  • GERMANY (FED REP GER)37
  • France32

本刊中国学者近年发表论文

  • 1、Dual-Gate Phototransistor for Electrically Tunable Image Edge Detectio

    Author: Zhu, Kangle; Zheng, Yiqiang; Li, Zhexin; Li, Linlin; Xu, Hao; Zhang, Wenxuan; Wang, Hailong; Xue, Han; Deng, Fei; Lou, Zheng; Wang, Lili

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 772-775. DOI: 10.1109/LED.2026.3660304

  • 2、A Bilayer LiF/C60 Interfacial Strategy for High Efficiency Inverted PbS QD Photodetector

    Author: Zhong, Andong; Ling, Kaijie; Li, Guopeng; Chen, Qian; Zheng, Yixin; Guo, Tianjing; Xia, Yong; Chen, Wei; Tang, Haodong

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 700-703. DOI: 10.1109/LED.2026.3658433

  • 3、Patterned Quantum Dot Light-Emitting Diode Array Based on BNNS-Assisted Heat Releas

    Author: Zhang, Zehuang; Pan, Youjiang; Hu, Hailong; Lin, Lihua; Guo, Tailiang; Li, Fushan

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 780-783. DOI: 10.1109/LED.2026.3665548

  • 4、High-Performance Low-Voltage-Operation InSnZnO/InAlO Heterojunction Thin-Film Transistors via Atomic Layer Depositio

    Author: Zhang, Yu; Liu, Jiong; Wu, Zecheng; Luo, Binbin; Wu, Xuefeng; Bai, Rongxu; Zhang, David W.; Sun, Qingqing; Ji, Li; Hu, Shen

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 764-767. DOI: 10.1109/LED.2026.3661288

  • 5、A Sub-20 mV VTH Hysteresis Enhancement-Mode GaN p-FET With PEALD AlON Gate Dielectri

    Author: Zhang, Xuanming; Duan, Jiachen; Ding, Yihan; Guo, Qiyi; Wu, Jingyue; Liang, Ye; Zhang, Yuanlei; Gu, Jiangmin; Zhang, Jie; Mitrovic, Ivona; van Zalinge, Harm; Low, Kain Lu; Huang, Sen; Liu, Wen

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 712-715. DOI: 10.1109/LED.2026.3663022

  • 6、Anti-Ferroelectric ZrO2 Capacitors With Ultra-High Capacitive Memory Window and Low Operating Voltag

    Author: Zhang, Miaomiao; Ma, Minglei; Xu, Jiacheng; Qian, Haoji; Shen, Rongzong; Lin, Gaobo; Gu, Jiani; Song, Xinda; Ding, Yian; Cheng, Ran; Chen, Bing; Liu, Yan; Jin, Chengji; Chen, Jiajia; Han, Genquan

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 832-835. DOI: 10.1109/LED.2026.3664075

  • 7、An X-Band High Efficiency and Single Mode Output Overmoded RBWO Packed With Permanent Magne

    Author: Zhang, Dian; Jin, Zhenxing; Yang, Kaiqi; Yan, Jiyu; Zhang, Jun; Xiang, Yujie; Cheng, Xinbing; Zhang, Zicheng; Shu, Ting; Chen, Dongqun

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 808-811. DOI: 10.1109/LED.2026.3661368

  • 8、Top-ZrO2 Interface-Engineered ZrO2/HZO Ferroelectric Superlattices With Highly Stable Polarization Switching Over 1011 Cycle

    Author: Zhang, Chuanli; Yu, Xun; Chen, Zhenkun; Tang, Ruifeng; Fan, Guangxiang; Zhang, Yifan; Jiang, Pengfei; Long, Xiao; Wang, Yuan; Yang, Yang; Gong, Tiancheng; Wang, Yan; Wei, Wei; Luo, Qing

    Journal: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. 2026; Vol. 47, Issue 4, pp. 744-747. DOI: 10.1109/LED.2026.3661469

投稿常见问题

通讯方式:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。