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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

SCISCIE

国际简称:J MICRO-NANOLITH MEM  参考译名:微纳光刻技术杂志

  • 中科院分区

    3区

  • CiteScore分区

    Q2

  • JCR分区

    Q3

基本信息:
ISSN:1932-5150
E-ISSN:1932-5134
是否OA:未开放
是否预警:否
TOP期刊:否
出版信息:
出版地区:UNITED STATES
出版商:SPIE
出版语言:English
出版周期:Quarterly
出版年份:2007
研究方向:Multiple
评价信息:
影响因子:2.3
H-index:37
CiteScore指数:4.3
SJR指数:0.437
SNIP指数:1.791
发文数据:
Gold OA文章占比:19.90%
研究类文章占比:100.00%
年发文量:79
自引率:0.3043...
开源占比:0.287
出版撤稿占比:
出版国人文章占比:0
OA被引用占比:
英文简介 期刊介绍 CiteScore数据 中科院SCI分区 JCR分区 发文数据 常见问题

英文简介Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊介绍

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

期刊简介Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊介绍

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》自2007出版以来,是一本物理与天体物理优秀杂志。致力于发表原创科学研究结果,并为物理与天体物理各个领域的原创研究提供一个展示平台,以促进物理与天体物理领域的的进步。该刊鼓励先进的、清晰的阐述,从广泛的视角提供当前感兴趣的研究主题的新见解,或审查多年来某个重要领域的所有重要发展。该期刊特色在于及时报道物理与天体物理领域的最新进展和新发现新突破等。该刊近一年未被列入预警期刊名单,目前已被权威数据库SCI、SCIE收录,得到了广泛的认可。

该期刊投稿重要关注点:

Cite Score数据(2026年6月最新版)Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems Cite Score数据

  • CiteScore:4.3
  • SJR:0.437
  • SNIP:1.791
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q2 370 / 1030

64%

大类:Engineering 小类:Mechanical Engineering Q2 268 / 740

63%

大类:Engineering 小类:Condensed Matter Physics Q2 192 / 446

57%

大类:Engineering 小类:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 105 / 243

56%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 151 / 318

52%

CiteScore 是由Elsevier(爱思唯尔)推出的另一种评价期刊影响力的文献计量指标。反映出一家期刊近期发表论文的年篇均引用次数。CiteScore以Scopus数据库中收集的引文为基础,针对的是前四年发表的论文的引文。CiteScore的意义在于,它可以为学术界提供一种新的、更全面、更客观地评价期刊影响力的方法,而不仅仅是通过影响因子(IF)这一单一指标来评价。

历年Cite Score趋势图

中科院SCI分区Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 OPTICS 光学 4区 4区 4区 4区
期刊分区表(2025年3月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 OPTICS 光学 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 3区 4区 4区 4区
期刊分区表(2023年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 2区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 3区 3区 3区 3区
期刊分区表(2022年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 4区 4区 4区 4区
期刊分区表(2021年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学 4区 4区 4区 4区

中科院分区表 是以客观数据为基础,运用科学计量学方法对国际、国内学术期刊依据影响力进行等级划分的期刊评价标准。它为我国科研、教育机构的管理人员、科研工作者提供了一份评价国际学术期刊影响力的参考数据,得到了全国各地高校、科研机构的广泛认可。

中科院分区表 将所有期刊按照一定指标划分为1区、2区、3区、4区四个层次,类似于“优、良、及格”等。最开始,这个分区只是为了方便图书管理及图书情报领域的研究和期刊评估。之后中科院分区逐步发展成为了一种评价学术期刊质量的重要工具。

历年中科院分区趋势图

JCR分区Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems JCR分区

2025-2026年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 221 / 369

40.2

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 336 / 472

28.9

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 116 / 148

22

学科:OPTICS SCIE Q3 68 / 129

47.7

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 250 / 371

32.75

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 328 / 473

30.76

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 104 / 148

30.07

学科:OPTICS SCIE Q3 93 / 129

28.29

2023-2024年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 252 / 352

28.6

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 338 / 438

22.9

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 115 / 140

18.2

学科:OPTICS SCIE Q3 82 / 119

31.5

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 255 / 354

28.11

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 311 / 438

29.11

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 103 / 140

26.79

学科:OPTICS SCIE Q3 88 / 120

27.08

JCR分区的优势在于它可以帮助读者对学术文献质量进行评估。不同学科的文章引用量可能存在较大的差异,此时单独依靠影响因子(IF)评价期刊的质量可能是存在一定问题的。因此,JCR将期刊按照学科门类和影响因子分为不同的分区,这样读者可以根据自己的研究领域和需求选择合适的期刊。

历年影响因子趋势图

本刊中国学者近年发表论文

  • 1、In-line metrology and inspection for hidden structure of lateral gate-all-around devices enabled by high voltage critical dimension scanning electron microscop

    Author: Shohjoh, Tomoyasu; Isawa, Miki; Lorusso, Gian Francesco; Horiguchi, Naoto; Mertens, Hans; Bogdanowicz, Janusz; De Bisschop, Peter; Charley, Anne-Laure

    Journal: JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3. 2026; Vol. 25, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1117/1.JMM.25.1.014002

  • 2、Enhanced multipopulation GA-BBO with chaotic acceleration for digital lithography mask optimizatio

    Author: Huang, Shengzhou; Pan, Jiani; Wu, Dongjie; Shao, Yongkang; He, Siwen

    Journal: JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3. 2026; Vol. 25, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1117/1.JMM.25.1.013401

  • 3、Underpass fabrication between Si-based straight-line and arc-shaped open microchannel

    Author: Ma, Tieying; Zhan, Rongbin; Feng, Guojin; Jiang, Yixin; Zhou, Jinzhu; Zhou, Weijian

    Journal: JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3. 2025; Vol. 24, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1117/1.JMM.24.1.013601

  • 4、Image denoising algorithm based on double branching for critical dimension scanning electron microscop

    Author: Liu, Sa; Deng, Fuqin; Zhu, Yanan; Liu, Zhuming

    Journal: JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3. 2025; Vol. 24, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1117/1.JMM.24.1.014004

投稿常见问题

通讯方式:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。