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Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing

SCISCIE

国际简称:PLASMA CHEM PLASMA P  参考译名:等离子化学和等离子处理

  • 中科院分区

    3区

  • CiteScore分区

    Q2

  • JCR分区

    Q1

基本信息:
ISSN:0272-4324
E-ISSN:1572-8986
是否OA:未开放
是否预警:否
TOP期刊:否
出版信息:
出版地区:UNITED STATES
出版商:Springer US
出版语言:English
出版周期:Quarterly
出版年份:1981
研究方向:工程技术-工程:化工
评价信息:
影响因子:3.5
H-index:57
CiteScore指数:5.9
SJR指数:0.585
SNIP指数:1.007
发文数据:
Gold OA文章占比:20.00%
研究类文章占比:91.36%
年发文量:81
自引率:0.0833...
开源占比:0.0935
出版撤稿占比:
出版国人文章占比:0
OA被引用占比:
英文简介 期刊介绍 CiteScore数据 中科院SCI分区 JCR分区 发文数据 常见问题

英文简介Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊介绍

Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

期刊简介Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊介绍

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》自1981出版以来,是一本物理与天体物理优秀杂志。致力于发表原创科学研究结果,并为物理与天体物理各个领域的原创研究提供一个展示平台,以促进物理与天体物理领域的的进步。该刊鼓励先进的、清晰的阐述,从广泛的视角提供当前感兴趣的研究主题的新见解,或审查多年来某个重要领域的所有重要发展。该期刊特色在于及时报道物理与天体物理领域的最新进展和新发现新突破等。该刊近一年未被列入预警期刊名单,目前已被权威数据库SCI、SCIE收录,得到了广泛的认可。

该期刊投稿重要关注点:

Cite Score数据(2026年6月最新版)Plasma Chemistry And Plasma Processing Cite Score数据

  • CiteScore:5.9
  • SJR:0.585
  • SNIP:1.007
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q2 115 / 446

74%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films Q2 41 / 141

71%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Chemistry Q2 123 / 402

69%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Chemical Engineering Q2 88 / 270

67%

CiteScore 是由Elsevier(爱思唯尔)推出的另一种评价期刊影响力的文献计量指标。反映出一家期刊近期发表论文的年篇均引用次数。CiteScore以Scopus数据库中收集的引文为基础,针对的是前四年发表的论文的引文。CiteScore的意义在于,它可以为学术界提供一种新的、更全面、更客观地评价期刊影响力的方法,而不仅仅是通过影响因子(IF)这一单一指标来评价。

历年Cite Score趋势图

中科院SCI分区Plasma Chemistry And Plasma Processing 中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区 3区 3区
期刊分区表(2025年3月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区 3区 3区
期刊分区表(2023年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
物理与天体物理 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区 3区 3区
期刊分区表(2022年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 2区 3区 3区
期刊分区表(2021年12月升级版) 综述期刊:否 Top期刊:否
大类学科 分区 小类学科 分区
工程技术 3区 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 3区 3区 3区

中科院分区表 是以客观数据为基础,运用科学计量学方法对国际、国内学术期刊依据影响力进行等级划分的期刊评价标准。它为我国科研、教育机构的管理人员、科研工作者提供了一份评价国际学术期刊影响力的参考数据,得到了全国各地高校、科研机构的广泛认可。

中科院分区表 将所有期刊按照一定指标划分为1区、2区、3区、4区四个层次,类似于“优、良、及格”等。最开始,这个分区只是为了方便图书管理及图书情报领域的研究和期刊评估。之后中科院分区逐步发展成为了一种评价学术期刊质量的重要工具。

历年中科院分区趋势图

JCR分区Plasma Chemistry And Plasma Processing JCR分区

2025-2026年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 90 / 183

51.1

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 75 / 191

61

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 7 / 43

84.9

学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 71 / 183

61.48

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 72 / 191

62.57

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 19 / 43

56.98

2024-2025年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 97 / 176

45.2

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 101 / 187

46.3

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 13 / 41

69.5

学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 69 / 176

61.08

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 77 / 187

59.09

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 20 / 41

52.44

2023-2024年最新版
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3

学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75

JCR分区的优势在于它可以帮助读者对学术文献质量进行评估。不同学科的文章引用量可能存在较大的差异,此时单独依靠影响因子(IF)评价期刊的质量可能是存在一定问题的。因此,JCR将期刊按照学科门类和影响因子分为不同的分区,这样读者可以根据自己的研究领域和需求选择合适的期刊。

历年影响因子趋势图

发文数据

国家/地区发文量统计
  • 国家/地区数量
  • CHINA MAINLAND70
  • Russia37
  • USA29
  • France26
  • GERMANY (FED REP GER)21
  • Czech Republic15
  • Iran14
  • India12
  • Japan12
  • Poland11

本刊中国学者近年发表论文

  • 1、A Pulse-Modulated Microwave Atmospheric Pressure Plasma Jet and its Applications in Polymer Modification

    Author: Zhang, Dai; Zou, Daopeng; Guo, Ruilin; Huang, Yaoyao; Chang, Xijiang; Wu, Zhonghang; Xiong, Zilan

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10664-6

  • 2、Two-Dimensional Simulation of the Discharge Characteristics of He Atmospheric Pressure Plasma Jet Arra

    Author: Wang, Lijun; Liu, Junxian; Shi, Qinghua; Han, Zhongji; Zhao, Huan

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10662-8

  • 3、Study on Plasma Drying of Expandable Graphite and Influencing Factor

    Author: Liu, Fei; Yu, Zhe; Zhang, Xiaochuan; Chen, Long; Song, Chunlian; Duan, Ping

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10659-3

  • 4、Influence of Particle Distribution on CO2 Dissociation and Discharge Behavior in a Fluidized-Bed DBD Reacto

    Author: Maina, Francis; Kobayashi, Nobusuke; Masumbuko, Robert; Suami, Akira; Zhang, Baiqiang

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10658-4

  • 5、The Effects of Trace H2O on the Corona Discharge Decomposition of C5F10O/N2 Mixtures with Electron Attachment Mass Spectrometry Detectio

    Author: Gao, Qingqing; Xiao, Yafan; Miao, Jiale; Wang, Xiaohua; Chen, Qiang; Yang, Aijun

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10651-x

  • 6、Novel Pulsed AC-Driven Atmospheric-Pressure Dielectric Barrier Discharge: Achieving Ultra-High Energy Efficiency in Ozone Synthesi

    Author: Zhou, Xiong-Feng; Dai, Jing; Liu, Kun

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10652-w

  • 7、Plasma Effect on Germination and Physicochemical Properties of Moist Wheat Grai

    Author: Yuan, Shuning; Hu, Yu; Wang, Bo; Lv, Tian; Jiang, Hao

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-025-10612-w

  • 8、Plasma Vitrification of Waste Incineration Fly Ash: A Revie

    Author: Xue, Zhiliang; Du, Zhaohui; Zhang, Hao; Li, Pei; Du, Changming

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-025-10620-w

投稿常见问题

通讯方式:SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。